Klasifikace slitin vizmutu

Slitina cínu a vizmutu

Slitina cínu a vizmutu je slitina šetrná k životnímu prostředí. Při pokojové teplotě je pevná a stříbřitě bílá s teplotou tání 138 °C, rychlostí smrštění objemu pevné kapaliny 0,051 % a silnou propustností. Slitina formy s nízkým bodem tání cínu a vizmutu se používá k výrobě tenkých plechových forem pro lisování za studena, které mohou lisovat měď, hliník, ocel, nerezovou ocel a další desky a tloušťka ocelové desky může dosáhnout. Pro kreslení, ohýbání a tvarování tenkých plechů. Použití forem ze slitin s nízkou teplotou tání nevyžaduje formuovou ocel a tvorba filmu je jednoduchá a rychlá; náklady na formu jsou nízké a aktualizace je rychlá; forma nemusí být nastavena a nemusí být zpracována; forma může být po použití přetavena a slitina může být použita opakovaně; Výrazně zmenšete prostor pro stohování forem.

Slitina olova a vizmutu

Slitiny olova a vizmutu jsou také známé jako nízkoteplotní slitiny nebo slitiny s nízkým bodem tání nebo tavitelné slitiny. Skládá se hlavně z olova a vizmutu s nižší teplotou tání a některé další kovy se také přidávají k úpravě bodu tání slitiny. Slitiny olova a vizmutu mohou být použity jako chladicí kapaliny pro reaktory. Přestože je bod tání eutektických slitin olova a vizmutu (LBE) o něco vyšší než u sodíku, jeho chemická aktivita je slabší. Komplexní hodnocení výkonu a praktické inženýrské aplikace (včetně použití v mobilních jaderných blocích) To vše prokázalo, že je zcela proveditelné být použit jako chladicí kapalina pro příští generaci nových rychlých reaktorů.

Hliníková slitina vizmutu

Slitina připravená z vizmutu a hliníku se používá jako plnivo pro zakřivenou tenkostěnnou trubku, která může udržet vnitřní stěnu trubky hladkou a čistou a plnivo lze použít opakovaně mnohokrát.

Řada slitin s nízkou teplotou tání složených z vizmutu a kadmia, india, kadmia a stříbra se používá k výrobě elektrických spotřebičů, pojistek, automatických signalizátorů zařízení atd. Nahraďte olověné střely kuličkami ze slitiny vizmutu a cínu.